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沈陽科晶1200℃小型三溫區(qū)開啟式管式爐是一款加熱區(qū)為450mm （150+150+150mm）的開啟式三溫區(qū)管式爐,其石英爐管的直徑為25,, 50,60,80或100mm。三個溫 區(qū)都由獨立的溫控系統(tǒng)控制，可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1 ° C,高溫度可達到1200°Co

沈陽科晶1200℃五溫區(qū)獨立控制管式爐采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節(jié)各個溫區(qū)的 溫度，可以在加熱區(qū)內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫 區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。

沈陽科晶1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐每個溫區(qū)分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制，通過調節(jié)各個溫區(qū)的溫度，可以在加熱 區(qū)內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產(chǎn)，主要針對電子陶 瓷的預燒、燒結、緩膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝。

沈陽科晶1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐每個溫區(qū)分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍 大，溫度均勻性高，溫區(qū)多等特點。本機可通氣氛抽真空，操作簡單，安全可靠。

沈陽科晶1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐高溫度可達到1200P,并可通過調節(jié)兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成 —梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種蒲膜。