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技術(shù)文章

接觸式:4探針法測定-RT70V系列

在這里,我們將介紹接觸式電阻測量原理的概述(4探針法)(該原理的詳細說明在材料中)。

(*對于我們的產(chǎn)品,還有一個系統(tǒng)會根據(jù)電阻范圍使用不同的測量方法。)

 

四探針法主要用于接觸式情況,可以測量1E-3(1m)到1E + 9(1G)Ω/□電阻范圍。

這種測量方法是在廣泛領(lǐng)域中測量電阻的基礎(chǔ)。

 

●在四探針法中,將按照以下步驟進行測量。

(1)將四個針狀電極直線地放在測量樣品上。

(2)兩個外部探頭之間流過恒定電流。

(3)通過測量兩個內(nèi)部探針之間的電位差來計算電阻。

 

如下圖所示,相同的測量原理用于電阻和薄層電阻的測量。 

電阻(電阻率)

座阻力

我們的4探針測量系統(tǒng)是符合JIS和ASTM標(biāo)準的測量方法和校正方法,已被用作行業(yè)標(biāo)準測量系統(tǒng),尤其受到硅相關(guān)用戶的信賴。我會。

另外,關(guān)于可追溯性,我們使用符合NIST(美國國家標(biāo)準技術(shù)研究院)標(biāo)準的標(biāo)準樣品作為設(shè)備校準標(biāo)準,進行認真的裝運前檢驗。

* 4探針法和“ 4端子法”的測量原理相同,唯1的不同是與樣品接觸的電極部分的形狀不同。4探針的針距為1 mm =測量點:大約3 mm,與4端子探針相比,可以在非常小的點上進行測量。另外,如在四端子法中一樣,通過消除在樣品上形成電極的需要可以提高工作效率。

此外,納普森的4針電阻測量設(shè)備符合日本工業(yè)標(biāo)準(JIS)和美國材料測試協(xié)會(ASTM)設(shè)定的以下標(biāo)準。

日本工業(yè)標(biāo)準

JIS H 0602-1995

硅單晶和硅晶片的四探針法電阻測量方法

JIS K 7194-1994

導(dǎo)電塑料四探針法電阻測試方法

美國材料試驗學(xué)會

ASTM F 84-99(SEMI MF84)

用在線四點探針測量硅晶片電阻率的標(biāo)準測試方法

ASTM F 374-00a

使用單配置程序的在線四點探針對硅外延層,擴散層,多晶硅層和離子注入層的薄層電阻的標(biāo)準測試方法

ASTM F 390-11

帶共線四探針陣列的金屬薄膜的薄層電阻的標(biāo)準測試方法

ASTM F 1529-97

雙重配置程序的直插式四點探針的薄層電阻均勻性評估的標(biāo)準測試方法

 

日本napson4探針法測量儀

 

測量儀:RT-70V>

  • 使用JOG撥盤,厚度,溫度,PN輸入(RT-70V測試儀),易于操作
  • 自檢功能,自動量程切換,4種測量模式
  • 具有厚度/溫度補償功能(用于硅)

 

<測量階段>

*根據(jù)目的和用途,可以從以下選擇測量階段。

  • (1)RG-7C  [產(chǎn)品圖片左上]:電機自動上下探針臺
  • (2)RG-5   [產(chǎn)品圖像左下方] 帶手動手柄的探針上下平臺
  • (3)RG-7S [產(chǎn)品圖片右上]:用于玻璃基板/薄膜樣品的XY工作臺 
  • (4)TS-7D [產(chǎn)品圖像右下] 便捷的探頭類型*平臺板是可選的。

 

測量規(guī)格

測量目標(biāo)

  • 與半導(dǎo)體/太陽能電池相關(guān)的材料(硅,多晶硅,SiC等)
  • 新材料/功能材料(碳納米管,DLC,石墨烯,銀納米線等)
  • 導(dǎo)電薄膜相關(guān)(金屬,ITO等)
  • 擴散樣本
  • 硅基外延離子注入樣品
  • 其他(*請與我們聯(lián)系)

測量尺寸

*組合測量取決于舞臺類型。

圓形:?300mm(12英寸),方形:?730x920mm,可廣泛使用。

測量范圍

[電阻(電阻率)]1μ?300kΩ? cm 
[板電阻] 5m?10MΩ/ sq

測量儀:RT-70V>

  • 使用JOG撥盤,厚度,溫度,PN輸入(RT-70V測試儀),易于操作
  • 自檢功能,自動量程切換,4種測量模式
  • 具有厚度/溫度補償功能(用于硅)

 

<測量階段>

*根據(jù)目的和用途,可以從以下選擇測量階段。

  • (1)RG-7C  [產(chǎn)品圖片左上]:電機自動上下探針臺
  • (2)RG-5   [產(chǎn)品圖像左下方] 帶手動手柄的探針上下平臺
  • (3)RG-7S [產(chǎn)品圖片右上]:用于玻璃基板/薄膜樣品的XY工作臺 
  • (4)TS-7D [產(chǎn)品圖像右下] 便捷的探頭類型*平臺板是可選的。

 

測量規(guī)格

測量目標(biāo)

  • 與半導(dǎo)體/太陽能電池相關(guān)的材料(硅,多晶硅,SiC等)
  • 新材料/功能材料(碳納米管,DLC,石墨烯,銀納米線等)
  • 導(dǎo)電薄膜相關(guān)(金屬,ITO等)
  • 擴散樣本
  • 硅基外延離子注入樣品
  • 其他(*請與我們聯(lián)系)

測量尺寸

*組合測量取決于舞臺類型。

圓形:?300mm(12英寸),方形:?730x920mm,可廣泛使用。

測量范圍

[電阻(電阻率)]1μ?300kΩ? cm 
[板電阻] 5m?10MΩ/ sq

日本napson4探針法測量儀

聯(lián)系人:林經(jīng)理
地址:深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)新旺路和健云谷2棟B座1002
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